新闻财经最新股票行情分析:300346 南大光电—股票行情主力资金的最新股票行情

｜”。                                                                                                                  ｜
｜    按照此前计划，公司将达到年产25吨193nm（ArF干式和浸没式）光刻胶产品的生产规模，以满足集成电路行业的需求。          ｜
｜    资料显示，南大光电主要从事高纯电子材料研发、生产和销售，通过承担国家重大技术攻关项目并实现产业化。目前，公司形成MO｜
｜源、电子特气、光刻胶及配套材料以及ALD/CVD前驱体材料等业务板块。                                                       ｜
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｜   2020-12-18   ｜南大光电(300346)ArF光刻胶认证通过 国产替代龙头进阶在即                            ｜   太平洋证券   ｜
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｜    事件：2020年12月17日，南大光电发布公告称，子公司宁波南大光电自主研发的ArF 光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证，成｜
｜为国内通过产品验证的第一款国产ArF 光刻胶，为全面完成02 专项目标奠定了坚实的基础。                                     ｜
｜    制程的关键，光刻胶性能决定了工艺所能达到的高度。根据全球半导体行业协会SEMI 最新数据，2020 年全球半导体材料市场将达｜
｜到529.4亿美元，且2021 年将增长至563.6 亿美元，同比增长6%。而在众多半导体材料体系中，制备难度和技术重要性首屈一指的，非｜
｜光刻胶莫属。作为IC 光刻工艺中，光刻胶扮演着电路图案载体的重要角色，其品质好坏直接决定着光刻制程的成败，此外，光刻胶分 ｜
｜辨率所能达到的极限指标，便是光刻工艺的极限领域。                                                                      ｜
｜    在工艺节点随摩尔定律演化至今的过程中，光刻胶发展分别经历了G/I 线光刻胶（非化学放大）、KrF 光刻胶（化学放大）、ArF ｜
｜光刻胶（化学放大）、ArFi 光刻胶（化学放大）、EUV 光刻胶等品类。本次南大光电验证通过的光刻胶属于仅次于EUV 光刻胶的ArF  ｜
｜光刻胶，线制程工艺可以满足45nm-90nm 光刻需求，孔制程工艺可满足65nm-90nm光刻需求。南大光电是国内首家通过关键客户产品验 ｜
｜证的ArF 光刻胶生产厂商，虽然离全面替代尚需时日，但这是一个非常好的开始，再次验证了南大管理层与技术团队的领先技术水平，｜
｜以及扎实审慎的工作推进能力。                                                                                          ｜
｜    光刻胶作为核心战略性材料，工艺制程壁垒极高。与高端核心光刻机一样，我国IC 产业界在高端光刻胶领域同样面临着受制于人 ｜
｜的“卡脖子”困境。究其原因有如下几点：首先是技术壁垒，虽然光刻胶的本质是“照相底片”原理，但其所承载的电路图案几何尺寸｜
｜仅有纳米级别，其图案“分辨率”、“边缘粗糙度”、“化学放大敏感度”有着近乎严苛的要求；其次是仓储物流，不同于其他半导体｜
｜材料可以批量采购囤货以备不测，光刻胶必须保存于低温避光场所，对环境温度、湿度及光照度极为敏感，且保质期短，难以长期存储｜
｜；再次是地缘政治，目前全球光刻胶主流供应商皆源于日本美国，中美贸易科技争端已然不必多言，而2019 年日本对韩禁运光刻胶令 ｜
｜韩系面板及存储、芯片制程受到非常严重的影响。在当今复杂多变的国际形势下，高端光刻胶的突破不仅具备重要的经济价值，更为重｜
｜要的是其对产业链安全的战略价值。                                                                                      ｜
｜    需要看到，南大光电所推进的光刻胶自主自制，关键原材料同样受到日美竞争对手的遏制，用于前道制程的酚醛树脂以及很多中间｜
｜体材料必须自主研制开发，决定光刻性能的诸多关键数据也只能靠自身不断摸索与积累，这是近乎于从无到有的挑战。能够通过下游客｜
｜户的使用与认证，不仅仅是公司在光刻胶这一单一产品上的成功，更是从上游原材到中间制程的全面进化。                        ｜
｜    光刻胶与前驱体、特气、MO 源协同共进，半导体材料多点开花。作为一家从MO 源起家的电子级材料供应商，南大光电的半导体材｜
｜料版图除光刻胶以外，亦有MO 源、ALD 前驱体、磷烷、砷烷、含氟特气等多种IC 核心材料，且诸多产品均已打入中芯国际、长江存储｜
｜、台积电等国内外一线晶圆厂，此外在LED、面板及光伏领域亦有诸多建树。此番ArF 光刻胶产品认证通过，进一步完善了公司在半导 ｜
｜体前端材料领域的全体系业务拼图，对于下游晶圆厂业务的推广与深入具有非常重要的意义。                                    ｜
｜    盈利预测和投资评级：维持买入评级。由于年初疫情和中美贸易战的多重叠加，上半年公司主业MO 源的下游销售与出海受到了相 ｜
｜当的影响，对公司整体的业绩成长带来一定拖累，但下半年开始逐渐好转。随着中美贸易战的升级，以及美国对华为、中芯等科技企业｜
｜的技术封锁层层加码，以光刻胶为代表的半导体关键技术的自主可控已经不是一个单纯的是否赚钱的经济问题，而是关乎产业生死存亡｜
｜的战略要务。南大光电ArF 光刻胶顺利通过客户验证，对企业发展来说，仅仅是一小步，但对半导体核心技术国产化来说，却是一大步｜
｜，意义鲜明。预计公司2020-2022 年实现归母净利润1.23、1.81、2.92 亿元，当前市值对应PE 分别为109.91、74.71、46.35 倍,维持｜
｜公司买入评级。                                                                                                        ｜
｜    风险提示：                                                                                                        ｜
｜    1）市场拓展不及预期；2）半导体景气度持续的不确定性；3）LED 及光伏需求不及预期；4）新产品研发推广进度不及预期。    ｜
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｜   2020-12-18   ｜南大光电(300346)ArF光刻胶产品通过客户认证                                         ｜     全景网     ｜
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｜　　全景网12月18日讯 南大光电(300346)12月17日晚公告，公司控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户｜
｜的使用认证。“ArF光刻胶产品开发和产业化”是宁波南大光电承接国家“02专项”的一个重点攻关项目。本次产品的认证通过，标志 ｜
｜着“ArF光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，为全面完成项目目标奠｜
｜定了坚实的基础。                                                                                                      ｜
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｜   2020-12-18   ｜南大光电(300346)自研ArF光刻胶产品通过客户认证                                     ｜   上海证券报   ｜
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｜  　长期被国外垄断的ArF光刻胶，终于迈出了国产化的第一步。南大光电12月17日晚公告，公司控股子公司宁波南大光电材料有限公 ｜
｜司（下称"宁波南大光电"）自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证。                                           ｜
｜　  认证评估报告显示，本次认证选择客户50nm闪存产品中的控制栅进行验证，宁波南大光电的ArF光刻胶产品各项性能满足工艺规格 ｜
｜要求，良率结果达标。                                                                                                  ｜
｜　  南大光电表示，"ArF光刻胶产品开发和产业化"是宁波南大光电承接国家"02专项"的一个重点攻关项目。本次产品认证的通过，标 ｜
｜志着"ArF光刻胶产品开发和产业化"项目取得了关键性的突破，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，为全面完成项目目标奠｜
｜定了坚实的基础。                                                                                                      ｜
｜　  根据公司此前披露的项目可行性研究报告，南大光电此次实现突破的为193nm 的ArF光刻胶。这种光刻胶可以用于生产28nm到7nm的｜
｜制程工艺，目前广泛应用于高端芯片制造，如逻辑芯片、AI芯片、5G芯片、大容量存储器和云计算芯片等，被称为半导体工业的"血液"｜
｜。                                                                                                                    ｜
｜　  按照此前计划，公司将达到年产25吨193nm（ArF干式和浸没式）光刻胶产品的生产规模，以满足集成电路行业的需求。          ｜
｜　  资料显示，南大光电主要从事高纯电子材料研发、生产和销售，通过承担国家重大技术攻关项目并实现产业化。目前，公司形成MO｜
｜源、电子特气、光刻胶及配套材料以及ALD/CVD前驱体材料等业务板块。                                                       ｜
｜　  公司称，目前与客户的产品销售与服务协议尚在协商之中。同时，ArF光刻胶的复杂性决定了其在稳定量产阶段仍然存在工艺上的 ｜
｜诸多风险，其在应用工艺的改进、完善等方面的表现，都会决定ArF光刻胶的量产规模和经济效益。                               ｜
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｜   2020-12-17   ｜南大光电(300346):控股子公司自主研发的ArF光刻胶产品通过客户认证                    ｜     中证网     ｜
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｜　　中证网讯（记者 张兴旺）南大光电（300346）12月17日晚间公告称，公司控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶产品近日｜
｜成功通过客户的使用认证。“ArF光刻胶产品开发和产业化”是宁波南大光电承接国家“02专项”的一个重点攻关项目。本次产品的认 ｜
｜证通过，标志着“ArF 光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，为全面 ｜
｜完成项目目标奠定了坚实的基础。                                                                                        ｜
｜　　南大光电表示，ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，可以用于 90nm-14nm 甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺 ｜
｜。广泛应用于高端芯片制造（如逻辑芯片、 AI 芯片、5G 芯片、大容量存储器和云计算芯片等）。ArF光刻胶的市场前景好于预期。随｜
｜着国内IC行业的快速发展，自主创新和国产化步伐的加快，以及先进制程工艺的应用，将大大拉动光刻胶的用量。                  ｜
｜　　南大光电称，本次通过客户认证的产业化意义大。本次验证使用的50nm闪存技术平台，在特征尺寸上，线制程工艺可以满足45nm-9｜
｜0nm光刻需求，孔制程工艺可满足65nm-90nm光刻需求，该工艺平台的光刻胶在业界有代表性。                                    ｜
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｜   2020-12-17   ｜南大光电(300346):ArF光刻胶产品通过客户认证                                        ｜   证券时报网   ｜
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｜    证券时报e公司讯，南大光电(300346)12月17日晚公告，公司控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户｜
｜的使用认证。“ArF光刻胶产品开发和产业化”是宁波南大光电承接国家“02专项”的一个重点攻关项目。本次产品的认证通过，标志 ｜
｜着“ArF光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，为全面完成项目目标奠｜