今日股票行情在线分析:688072拓荆科技—股票行情主力资金的最新股票行情

｜    作为注册制改革的“试验田”和定位于支持“硬科技”产业的融资板块，科创板成立近三年来，基础制度不断完善，上市条件的包｜
｜容度和适应性不断提升和增强，吸引了一大批“硬科技”企业选择到科创板发行融资。                                          ｜
｜    此次拓荆科技登陆科创板募集资金将主要用于开展配适10nm以下制程的PECVD产品研发，开发Thermal ALD和大腔室PE-ALD以及升级｜
｜SACVD设备，研发12英寸满足28nm以下制程工艺需要的SACVD设备，并借助募集资金开发中国台湾市场。                            ｜
｜    值得一提的是，拓荆科技上市后将在加强产品技术研发的同时，逐步培育和完善国内相关产业链。公司通过与国内供应商的深度合｜
｜作与磨合，推动设备关键部件国产化开发及验证，提高设备零部件的产品品质。同时，公司将利用国产设备厂商的综合优势，为客户提｜
｜供定向的技术开发与服务，助力半导体产业链发展，保障产业链的技术先进性。                                                ｜
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｜   2022-04-13   ｜拓荆科技(688072)打造薄膜沉积设备领军企业                                          ｜   上海证券报   ｜
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｜    日前，国产薄膜沉积设备领军企业拓荆科技完成IPO申购，即将登陆科创板。                                               ｜
｜    拓荆科技成立于2010年4月，是辽宁省及沈阳市重点培育的上市后备企业和中国半导体设备五强企业，主要从事高端半导体专用薄 ｜
｜膜沉积设备的研发、生产以及技术服务，产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气｜
｜相沉积（SACVD）设备三个产品系列，是目前国内唯一一家产业化应用的集成电路设备厂商。                                     ｜
｜    公司产品已广泛应用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路｜
｜制造产线，在不同种类芯片制造产线的多道工艺中得到商业化应用。同时，公司展开10nm及以下制程产品验证测试，在研产品已发往国｜
｜际领先晶圆厂参与其先进制程工艺研发。                                                                                  ｜
｜    拓荆科技立足自主创新，先后承担多项国家重大科技专项课题，在半导体薄膜沉积设备领域积累了多项研发及产业化核心技术，并｜
｜达到国际先进水平。其中，公司先进的薄膜工艺设备设计技术、反应模块架构布局技术、半导体制造系统高产能平台技术等核心技术，｜
｜不仅解决了半导体制造中纳米级厚度薄膜均匀一致性、薄膜表面颗粒数量少、快速成膜、设备产能稳定高速等关键难题，还在保证实现｜
｜薄膜工艺性能的同时，提升了客户产线的产能，减少客户产线的生产成本。                                                    ｜